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产品介绍

        PF-300T SAF 是一款次常压化学气相沉积（SACVD）设备
，聚焦关键介质填充
，重要利用于浅沟槽隔离（STI）、预金属介质层层间介质 （PMD/ILD）等工艺。产品选取 O?/TEOS 热化学沉积
，针对复杂沟槽与间隙结构
，可沉积高质量的 TEOS SiO? 和 BPSG 薄膜
，实现无浮泛介质填充
，搭载 PF-300T 高产能平台
，两全薄膜质量与量产能力。

产品特点
        -高质量的 TEOS SiO2 和 BPSG 工艺
        -双驱控温加热盘
，满足分歧厚度均匀性的需要
        -可按客户需要配置多路液态源
        -可搭载1~3个反映腔