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产品系列
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产品介绍

NF-300H TEOS 设备为自主研发的产品 ,重要利用于沉积功夫需要长的薄膜工艺 ,在均匀性、颗粒度、粗糙度、应力及产能等方面实现技术突破 ,设备机能指标达同类产品水平。


产品特点
- 高产能设计和可实现多种薄膜沉积的急剧切换
- 可满足沉积功夫需要长的薄膜工艺
- 满足300-600℃高温沉积需要
- PM腔内可进行多片wafer沉积和wafer自动起落旋转职能
- 通过S2安全认证

 
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